基于白光干涉的纳米级薄膜厚度和光学常数的研究开题报告

 2020-02-10 10:02
1.目的及意义(含国内外的研究现状分析)

1.1 目的及意义

随着科学和信息技术的发展,金属及金属氧化物薄膜材料凭借其优越的光学性能和电磁性能被广泛应用于微电子、光电、通信等产业中。金属及金属氧化物薄膜的性能在薄膜厚度降低到纳米级别会与体材料有极大差异。这种差异是由厚度引起的,所以精确测量纳米级薄膜的厚度和与厚度相关的光学常数是非常重要的。

现如今已经有很多种检测纳米级薄膜厚度和光学性质的方法,但每一种检测方法和检测仪器都有不同的测量精度、特点和局限性。金属及金属氧化物薄膜厚度和光学常数测量方法可以分为接触式和非接触式两种。典型的接触式测量方法是探针法,利用探头在薄膜表面移动时产生的垂直偏移量来测量薄膜厚度。台阶仪就是这种方法的典型应用,使用这种方法时需要在薄膜上制作台阶,基底作为台阶下表面,薄膜作为台阶上表面,探针与薄膜表面接触并且根据台阶来完成测量。在这种测量方法下,测量的薄膜需要首先做成台阶,对很多薄膜造成了损伤,且在接触过程中可能在薄膜表面产生划痕,测量速度较慢,不是一种理想的方法。非接触式测量方法也就是光学测量方法,典型的为椭偏仪法,它具有极高的灵敏度,尤其适合测量超薄薄膜,能够快速测量,但是它在模型选择的任意性、变量的相关性、数据拟合、分析过程过于复杂且分析结果易受分析人员主观判断影响等方面有缺陷。此外,还有X射线光电子能谱和俄歇电子能谱法,但测量会破坏样品,且设备价格十分昂贵。

因此,本课题研究的目的和意义是寻找一种有效的方法实现对纳米级金属及金属氧化物薄膜测量准确性和可靠性的研究。白光干涉法是一种简单高效的测量方法,它具有对环境不敏感、抗干扰能力强、测量动态范围大、结构简单等优点。

1.2 国内外发展状况

随着现代科技和生产工艺的发展和进步,薄膜测量技术也突飞猛进。

您需要先支付 5元 才能查看全部内容!立即支付

该课题毕业论文、开题报告、外文翻译、程序设计、图纸设计等资料可联系客服协助查找,微信号:bysjorg 、QQ号:3236353895;