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无铅焊点内扩散阻挡层的界面反应行为研究开题报告

 2020-04-27 11:04  

1. 研究目的与意义(文献综述)

长期以来,锡铅钎料由于其优异的性能在电子产品的pcb加工、封装中应用十分广泛。但随着社会的发展,人们逐渐意识到铅对人体及环境的危害,美国环境保护署已将铅及其化合物定性为17种严重危害人类寿命与自然环境的化学物质之一。自2006年7月1日欧盟实施无铅化以来,中国、日本和美国等也相继颁布了禁止使用铅及其化学物的法令。因此取代无铅焊料的发展已成为电子互连材料的重要组成部分。在各种替代无铅焊料中,sn-ag-cu(sac)焊料因为具有低熔点,良好的润湿性和机械性能,被认为是最有前途的无铅焊料合金之一。封装材料现在也基本上完成了由原来的锡铅焊料向无铅焊料的转变[1-3]

而锡铅钎料中的铅被相对少量的其它组分(如铜或者银)所替代后,这些组分在钎焊过程中会与基板金属反应形成金属间化合物(intermetalliccompound ,imc)。这些化合物一般为脆性,过厚的imc会劣化焊点机械和热疲劳性能,降低电子产品的可靠性。抑制imc过度生长的途径一般有两条,一是在无铅焊料中加入1wt.%到2wt.%的al, cr, si, zn, ag,au, ru, ti, pt, nb, fe, co, ni,和 cu等,二是开发出可制备的凸点下金属化层( under bump metallization,ubm),这种ubm比铜板更加稳定,能有效抑制无铅焊点与铜基板的界面扩散反应速率,避免生成较厚的金属间化合物。因为迄今为止,国内外学者对改变焊料成分方面做了很多努力,而修改ubm成分方面的工作相对较少,所以开发新的ubm很有价值[4-6]

化学镀ni-p镀层因为可有效阻挡cu的扩散,且易制备,成本较低,所以在工程界被广泛用作扩散阻挡层。但是由于表面au层的多孔性导致的ni 氧化,以及焊接面存在的富 p 层等因素可能存在 “黑盘”现象; 另外在 imc 与 ni-p 之间还会形成一层三元的 nisnp 微晶层,该层呈柱状晶结构,在老化过程中,sn 原子从 nisnp 中通过柱状晶扩散到 ni-p 中,在 ni sn p 中形成空位,最终形成“柯肯达尔”空洞,会显著降低焊点可靠性[4],所以亟需制备新的扩散阻挡层。

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2. 研究的基本内容与方案

2.1 基本内容

1、材料制备:通过表面沉积技术在铜基板上沉积得到不同的镍基镀层(Ni-W-P和Ni-Fe-P);形成无铅焊点进行回流和老化实验。

2、材料表征:对不同的镍基镀层进行结构表征和形貌分析,通过扫描电子显微镜(SEM)、能量色散X射线(EDX)等表征手段观察和分析界面的微观组织和结构。

2.2 研究目标

1、掌握无铅焊点的形成以及三元镍基镀层(Ni-W-P、Ni-Fe-P)的制备方法;

2、观测回流和时效处理下焊接界面的扩散和演变过程;

3、分析与归纳实验数据,对Ni-W-P、Ni-Fe-P镀层进行比较,提出比Ni-P镀层的优化方案。

2.3 技术方案

1、基体的前处理。选择紫铜(纯度>99.99%,厚度为1mm)作为基板,将其切成20mm×20mm的正方形。经#1200及#2000水磨砂纸磨平后用丙酮对其除油。试样经水洗后在下列溶液中进行电解抛光获得光洁表面:蒸馏水1000ml,磷酸500ml,酒精500ml,尿素10g,异丙醇101ml,抛光所用电压为7V。


2、镀层的制备。首先,将铜冲洗到50%的硝酸中15秒以除去铜基板的氧化物,然后用去离子水冲洗10秒。然后,用铝钩相连,放入镀液中施镀,制备Ni-W-P,Ni-Fe-P以及Ni-P镀层便于比较。Ni-W-P和Ni-Fe-P镀层分别的镀液成分见下表1。

表1. 三元镍基合金配方及工艺(单位为g/L)

Ni-W-P

Ni-Fe-P

NiSO4·6H2O

15

30

NaH2PO2·H2O

25

30

C6H8O7·H2O

60

-

C3H6O3

5

-

NH4Cl

30

-

Na2WO4

10

-

(NH4)Fe(SO4)2

-

15

主络合剂

-

45

添加剂(硫脲衍生物)

-

4

二甲苯

-

适量

pH值

9

7-11

温度

88±2℃

45℃-75℃



3、制备焊点。使用直径为0.76mm的Sn-3.0Ag-0.5Cu(SAC305)焊球,分别在 Ni-W-P、Ni-Fe-P以及Ni-P镀层表面涂抹助焊剂,然后使用植球机将焊球放置在各个镀层表面。最后将排布有焊球的各个试样置于加热板上进行回流实验。回流完成后将基板从加热板上拿下,置于室温环境下自然冷却。

4.对界面微观组织形貌进行表征。将焊点沿垂直方向切片,切片后用环氧树脂对试样进行冷镶。用水砂纸按照240#-800#-1200#-2000#顺序对试样观察表面进行预磨,然后进行抛光。使用扫描电子显微镜(SEM)结合能量色散X射线(EDX)光谱学研究了在Sn-3.0Ag-0.5Cu/ Ni-W-P /Cu,Sn-3.0Ag-0.5Cu/Ni-Fe-P /Cu界面形貌以及IMC的微观结构。使用Image J软件测量Ni-W-P镀层,Ni-Fe-P镀层和用来比较的Ni-P镀层以及它们分别对应IMC层的厚度。 同时,Sn-3.0Ag-0.5Cu/ Ni-W-P ,Sn-3.0Ag-0.5Cu/Ni-Fe-P和Sn-3.0Ag-0.5Cu/ Ni-P焊料互连中形成的IMC的俯视图形貌通过用稀NaOH溶液(20g / L)对焊点上方的残余焊料进行去除,观察其界面的腐蚀形貌。



3. 研究计划与安排

第1-3周:查阅相关文献资料,完成英文翻译。明确研究内容,了解研究所需原料、仪器和设备。确定技术方案,并完成开题报告;

第4-6周:按照技术方案,制备镍基镀层并形成无铅焊点接头;

第7-10周:观测回流和时效处理下焊接界面的扩散和演变过程;

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4. 参考文献(12篇以上)


[1] 田华存. 浅谈低ag系sn-ag-cu焊料的发展[j]. 中国新技术新产品, 2017(17):52-53.

[2] xut, hu xw, li yl, jiang xx, the growth behavior of interfacial intermetalliccompound between sn-3.5ag-0.5cu solder and cu substrate under differentthermal-aged conditions [j]. journal of materials science: materials inelectronics, 2017 (28): 18515-18528.

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