1. 研究目的与意义（文献综述包含参考文献）

1 背景介绍 新一代的微电子技术仍然需要超细有序排列微型化的高性能纳米图案[1]。

最近的极紫外（extreme-uv，简称euv）光刻技术达到了7 nm节点级别，这一远远地克服了传统浸没式光刻193 nm分辨率的限制[2-4]。

而由于嵌段共聚物（block copolymer,简称bcp）能够很大的范围内更小的特征尺寸下进行长程有序的排列，它也为我们提供了一种备选方案。

2. 研究的基本内容、问题解决措施及方案

采用原子转移自由基聚合反应及点击化学反应，合成abb型聚苯乙烯/聚甲基丙烯酸甲酯嵌段共聚物，并对合成产物进行测试分析及表征。

具体如下： 1. y型微结构体制备：①二氨基苯甲酸与氢氧化钠反应得到二氨基苯甲酸钠②二氨基苯甲酸钠与溴异丁酸反应成溴封端化合物。

2. 甲基丙烯酸酯单体的原子转移自由基聚合反应（atrp）：以溴封端的化合物作为引发剂，甲基丙烯酸甲酯为单体，进行atrp反应，得到pmma聚合物大分子。