铜离子辅助刻蚀制备高效单晶陷光结构开题报告
2020-07-06 06:07
1. 研究目的与意义(文献综述包含参考文献)
文 献 综 述 1 引言 众所周知,化石能源等一次能源短缺的问题日益凸显,化石能源的燃烧伴随着大量有害物质的排放,危害人类身体健康,造成酸雨的形成,严重污染水土等。
作为太阳能利用的重要组成部分,光伏发电是一种清洁的、用之不竭的可再生绿色新能源,受到越来越多的关注。
近年来全球光伏产业发展速度迅猛,而我国光伏产业规模已经稳居全球第一。
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2. 研究的基本内容、问题解决措施及方案
1 本课题要研究的问题 各种制备硅表面陷光结构方法所制备的材料的陷光效果。
2 拟采用的研究手段 采用化学腐蚀,双槽电化学腐蚀,飞秒脉冲激光辐照的方法在晶体硅表面制备了金字塔、多孔硅和黑硅三种陷光结构,结合扫描电镜和光谱测试,对光的反射和吸收情况进行了分析对比。
结果表明,所制备的材料均具有比较理想的陷光效果,黑硅材料在 300-2500nm 波段内具有90%以上的光吸收率。
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