登录

  • 登录
  • 忘记密码?点击找回

注册

  • 获取手机验证码 60
  • 注册

找回密码

  • 获取手机验证码60
  • 找回
毕业论文网 > 开题报告 > 理工学类 > 应用物理 > 正文

频率对射频驱动微等离子体的调制作用研究开题报告

 2020-05-02 05:05  

1. 研究目的与意义(文献综述)

目的:

利用粒子蒙特卡洛(pic/mc)模型,计算机模拟一维等离子体气体放电的物理过程,从而在定性的基础上进一步给出定量的计算结果,并计算得出等离子体密度、温度、电势、电场和粒子通量等放电特性。

意义:

剩余内容已隐藏,您需要先支付后才能查看该篇文章全部内容!

2. 研究的基本内容与方案

基本内容:

基于粒子蒙特卡洛(pic/mc)模型,对一维低气压co2气体放电的运动学行为进行数值模拟。

目标:

剩余内容已隐藏,您需要先支付后才能查看该篇文章全部内容!

3. 研究计划与安排

第1-3周查阅频率调制的射频微放电的文献,明确研究意义、目的、方法、内容及完成开题报告。

第4-5:掌握理论方法和模拟代码(pic/mc)。

第6-9:根据理论公式,修改程序代码。

剩余内容已隐藏,您需要先支付后才能查看该篇文章全部内容!

4. 参考文献(12篇以上)

[1] bruggeman p, brandenburg r. atmospheric pressure discharge filaments and microplasmas: physics, chemistry and diagnostics[j]. journal of physics d applied physics, 2013, 46(46):4001.
[2] zhang y, jiang w, zhang q z, et al. computational study of plasma sustainability in radio frequency micro-discharges[j]. journal of applied physics, 2014, 115(19):846.
[3] zhang y, jiang w, bogaerts a. kinetic simulation of direct-current driven microdischarges in argon at atmospheric pressure[j]. journal of physics d applied physics, 2014, 47(43):435201.
[4] wilczek s, trieschmann j, schulze j, et al. the effect of the driving frequency on the confinement of beam electrons and plasma density in low pressure capacitive discharges[j]. plasma sources science amp; technology, 2014, 24:024002.
[5] godyak v a. electron energy distribution function control in gas discharge plasmas[j]. physics of plasmas, 2013, 20(10):755.
[6] 利伯曼. 等离子体放电原理与材料处理[m]. 科学出版社, 2007.
[7] 姜巍. 射频容性耦合等离子体的两维隐格式pic/mc模拟[d]. 大连理工大学, 2010.
[8] 袁忠才, 时家明, 黄勇,等. 低温等离子体数值模拟方法的分析比较[j]. 核聚变与等离子体物理, 2008, 28(3):278-284.
[9] 张浚源, 陈峰, 孙伟中,等. ar射频放电特性随时间演化的pic/mcc模拟[j]. 核技术, 2012, 35(1):49-54.
[10] 王虹宇, 姜巍, 王友年. 低温等离子体particle-in-cell/monte carlo模拟的若干核心问题[c]// 中国电推进技术学术研讨会会议. 2009.
[11] goedde c g, lichtenberg a j, lieberman m a. self‐consistent stochastic electron heating in radio frequency discharges[j]. journal of applied physics, 1988, 64(9):4375-4383.
[12] 真壁利明, petrovic z l. plasma electronics : applications in microelectronic device fabrication[j]. crc press, 2014(sept).
[13] kushner m j. review article:, hybrid modelling of low temperature plasmas for fundamental investigations and equipment design[j]. journal of physics d applied physics, 2009, 42(19):194013.
[14] birdsall c k, langdon a b. plasma physics via computer simulation[m]. mcgraw-hill, 2005.
[15] hockney r w, eastwood j w. computer simulation using particles[j]. institute of physics, 1988, 76.
[16] lee j k, babaeva n y, kim h c, et al. simulation of capacitively coupled single- and dual-frequency rf discharges[j]. plasma science ieee transactions on, 2004, 32(1):47-53.



剩余内容已隐藏,您需要先支付 10元 才能查看该篇文章全部内容!立即支付

企业微信

Copyright © 2010-2022 毕业论文网 站点地图