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氧修饰二维锑烯能带结构的第一性原理计算研究任务书

 2020-04-07 08:04  

1. 毕业设计(论文)主要内容:

自石墨烯发现以来,二维材料以其独特的性质吸引了研究人员的广泛关注。鉴于石墨烯的零带隙缺陷,一系列新型二维半导体被不断发掘,比如最近日益受到关注的单层第五主族元素材料,其中比较有代表性的是锑烯。研究表明,当锑从块体减薄至单原子层(锑烯)时,其能带结构会发生突变,导致其由半金属转变为半导体,而且这类新型二维材料均具有极高的稳定性。但是,锑烯是一种间接带隙半导体,这大大限制了锑烯在光电器件等领域的应用。因此,让锑烯具有合适的带隙和更高的载流子迁移率,是现在亟待解决的一个问题。本论文拟采用基于密度泛函理论的第一性原理计算方法,研究氧修饰对锑烯能带结构的调控作用,考察自旋轨道耦合对其能带结构的影响,并探究氧修饰下锑烯是否具有拓扑保护的边缘态。

2. 毕业设计(论文)主要任务及要求

1. 阅读二维材料及其第一性原理研究方面的相关文献(不少于15篇,其中英文不少于5篇),并翻译其中一篇英文文献(不少于5000字)。

2. 独立完成开题报告,并提交文献综述报告(不少于3000字;参考文献不少于10篇,其中外文不少于5篇)。

3. 熟悉至少一种第一性原理计算的软件(castep、vasp 或 atk),掌握构建晶胞模型、选择计算参数的方法。

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3. 毕业设计(论文)完成任务的计划与安排

第1-3周:查阅相关文献资料,明确研究内容,熟悉计算软件;完成开题报告。

第4-5周: 理解计算原理方法,掌握结构建模、计算参数的选择。

第6-8周: 计算不同浓度氧修饰下锑烯的电子结构,总结修饰调控其i能带结构的规律性。

第9-10周:针对特定浓度氧修饰情形,计算并考察自旋轨道耦合对其能带结构的影响。

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4. 主要参考文献

[1] zhang s, zhou w, ma y, et al. antimoneneoxides: emerging tunable direct bandgap semiconductor and novel topologicalinsulator[j]. nano letters, 2017, 17(6).

[2] wang y j, zhou k g, yu g, et al. partialoxidized arsenene: emerging tunable direct bandgap semiconductor:[j].scientific reports, 2016, 6:24981.

[3] davids.sholl, janicea.steckel. 密度泛函理论[m]. 国防工业出版社,2014.

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