1. 研究目的与意义（文献综述包含参考文献）

一、课题研究背景及意义

1.1 低温等离子体

等离子体与固体、气体、液体一样，是物质的一种聚集状态，其中包含大量的电子、活性分子、中性原子以及由电子碰撞电离产生的各种离子、活性基团、自由基、激发态原子和分子^[1,2]。常规意义上的等离子体是中性气体中产生了相当数量的电离，当气体温度升高到其粒子的热运动动能可以比拟气体的电离能时，粒子之间发生碰撞、产生大量的电离过程，在体内活性粒子产生和湮灭的能量交换过程中伴随有大量的发光和发热，因此等离子体本质上是一种电离性质的气体^[3]。

2. 研究的基本内容、问题解决措施及方案

需要解决的问题：

使用大面积均匀模式下的二维射流阵列能够获得比单管射流更高的处理效率，而工作于强耦合模式下的二维射流阵列能够获得比相同条件下单管射流更强的射流等离子体，可以用于材料表面刻琢。但是目前对于二维射流阵列在各模式下稳定运行的条件、两种模式的放电特性和两种模式之间的转化条件研究较少，为了深入了解两种模式下的放电特性，需要搭建实验平台研究其放电特性，为实际生产应用做准备。

研究手段：