1. 研究目的与意义（文献综述包含参考文献）

文 献 综 述

1 分子层沉积技术

分子层沉积（molecular layer deposition, mld）是以任意的有机或有机和金属前驱体进行的连续自限制反应^[1,2]。分子层沉积和原子层沉积（atomic layer deposition, ald）的区别在于，在一个连续的反应过程中，反应接合上去的是一个分子片段。mld技术最初是为沉积的有机聚酰亚胺^[3,4]和聚酰胺^[5,6]聚合物薄膜的来定义的。聚硫^[7]和硫醇-烯^[8]聚合物也可以使用mld技术来生长。此外，还可以用有机和金属前驱体组合沉积杂化的有机-无机薄膜^[9-11]。金属前驱体和有机二醇或三醇反应生成金属醇聚合物薄膜，这就是”金属烷氧基”^[12]。

2. 研究的基本内容、问题解决措施及方案

1.主要研究内容

本课题的目的是通过分子层沉积技术在50 nm γ-al₂o₃陶瓷膜表面沉积一层有机钛薄膜，再经过煅烧，变成多孔氧化钛层，通过改变沉积次数，调节薄膜厚度，最终达到纳滤级别的分离性能。在保证原陶瓷膜通量的前提下，期望提高其截留分子量，实现膜性能的大幅度提升。

2.研究途径