石墨烯量子点的制备及在图案化中的应用文献综述
2020-06-08 09:06
文 献 综 述 1.1引言 新材料的发展及应用极大地推动了人类社会的文明与进步。
在一定程度上,新材料的研发水平和产业化规模已成为衡量一个国家经济发展、科技进步和国防实力的重要标志。
石墨烯量子点自2008年首次被发现以来,受到众多科研工作者极大的关注。
由于其优良的光电学性能、良好的化学稳定性、生物相容性、抗光漂白以及低毒性,使其在药物传输、光伏器件、光催化、生物成像等众多领域获得广泛应用。
1.2石墨烯量子点的研究进展 2008年,Novoselov等首次实验制备出零维的石墨烯材料,发现纳米尺寸的石墨烯圆盘具有量子点的性质,实现了石墨烯基非零能带系半导体材料的制备,展示了获得基于石墨烯的分子级电子器件的可能性。
石墨烯尺寸缩小至100nm以下具有量子约束电子状态,因此称之为石墨烯量子点(Graphene quantum dots,GQDs)。
基于量子限域(quantum confinement)理论,已有多个课题组通过不同的实验方法制备出了具有荧光性能的石墨烯量子点并期望通过改变尺度、形状等来调控其电学和光学性质,从而开发新型的应用。
此外,石墨量子点在水相及有机溶剂中都表现出良好的分散性能,因此可预期其相较微米级石墨烯具有更广泛的应用潜能。
与此同时,石墨烯量子点具有良好的化学稳定性、优良的光电学性能、抗光漂白和低毒性等特性,因此短短几年间其已引起了化学、材料、物理学和生物学领域研究者极大的关注。
1.3石墨烯量子点的制备 石墨烯量子点的制备方法主要有两类:自上而下法(Top-down methods)和自下而上法(Botton-up methods)。
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