原子层沉积改性碳纳米管薄膜的制备及表征开题报告
2020-06-10 10:06
1. 研究目的与意义(文献综述包含参考文献)
文 献 综 述 前言 纳米级材料是至少有一个维度要小于100nm的材料。
因为纳米结构在某一维度或更多维度具有量子限制效应,以及特殊的光、电、磁性质,目前为止,碳纳米管被认为是最具有希望的纳米级材料,具有良好的力学、光学、电学等性质,广泛应用于各个领域[1]。
研究表明,只有将碳纳米管组装成宏观材料,如薄膜,才能充分发挥碳纳米管的优越性能,实现其潜在应用。
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2. 研究的基本内容、问题解决措施及方案
拟使用化学气相沉积法制备的碳纳米管薄膜作为基膜,以二乙基锌和去离子水为前驱体,采用原子层沉积(ALD)法对其进行改性,对不同沉积次数下制备的碳纳米管改性膜进行表征及性能测试,探索其在膜分离领域的应用。
用SEM对沉积的形貌进行表征,用EDX对薄膜表面Zn元素的分布进行表征,用XRD对膜表面ZnO的晶型进行分析,用接触角测试仪对薄膜的亲水性进行测试,用超滤装置对改性前后的膜进行膜通量和选择性进行测试,进一步探索改性碳纳米管薄膜的抗菌性能。
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